實(shí)驗(yàn)室用超純氣體中氮雜質(zhì)濃度分析計(jì)裝置

產(chǎn)品名稱: 實(shí)驗(yàn)室用超純氣體中氮雜質(zhì)濃度分析計(jì)裝置

產(chǎn)品型號(hào): PES-050

產(chǎn)品特點(diǎn): 實(shí)驗(yàn)室用超純氣體中氮雜質(zhì)濃度分析計(jì)裝置
是一款高速響應(yīng)型微量氮?dú)鉂舛葴y(cè)量分析計(jì)裝置，主要用于氬氣或超純氣體中微量氮?dú)猓∟?）的在線檢測(cè)，廣泛應(yīng)用于空分系統(tǒng)、氬氣凈化、冶金、實(shí)驗(yàn)室等對(duì)氮?dú)怆s質(zhì)控制要求高的場(chǎng)景。

實(shí)驗(yàn)室用超純氣體中氮雜質(zhì)濃度分析計(jì)裝置 的詳細(xì)介紹

實(shí)驗(yàn)室用超純氣體中氮雜質(zhì)濃度分析計(jì)裝置

是一款高速響應(yīng)型微量氮?dú)鉂舛葴y(cè)量分析計(jì)裝置，主要用于氬氣或超純氣體中微量氮?dú)猓∟?）的在線檢測(cè)，廣泛應(yīng)用于空分系統(tǒng)、氬氣凈化、冶金、實(shí)驗(yàn)室等對(duì)氮?dú)怆s質(zhì)控制要求高的場(chǎng)景。

? 核心特點(diǎn)

表格

復(fù)制

特性	說(shuō)明
測(cè)量原理	基于等離子體發(fā)射光譜法（Plasma Emission Spectroscopy），通過(guò)高頻高壓電離氣體，激發(fā)氮原子發(fā)射特征光譜（約 337 nm ± 2 nm），實(shí)現(xiàn)非放射性、高靈敏度檢測(cè)。
測(cè)量范圍	典型量程為 0～10 ppm 或 0～100 ppm，可定制更低濃度。
響應(yīng)時(shí)間	T90 ≤ 30 秒，屬于高速響應(yīng)型，適合在線實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)。
檢測(cè)精度	±2% FS/24h 穩(wěn)定性，1%重復(fù)性，適用于微量級(jí)氮?dú)鈾z測(cè)。
樣氣條件	溫度：10～40℃，流量：50～150 mL/min，壓力：30～70 kPa，需避免含塵、含水或其他雜質(zhì)氣體（如 O?、CH?、H?、CO）。

? 技術(shù)優(yōu)勢(shì)

無(wú)放射源：傳統(tǒng)方法需使用放射性氬源，PES-050 采用高頻電離，環(huán)保安全；
無(wú)耗材：無(wú)消耗性部件，維護(hù)成本低、壽命長(zhǎng)；
恒溫控制：內(nèi)置恒溫裝置，減少環(huán)境溫度波動(dòng)對(duì)檢測(cè)的影響；
流量控制：配備高精度 MFC（質(zhì)量流量控制器），確保樣氣流速穩(wěn)定，提升測(cè)量一致性；
信號(hào)輸出：支持 4–20 mA 電流環(huán)輸出，可接入 DCS 或上位機(jī)系統(tǒng)。

? 典型應(yīng)用領(lǐng)域

空分裝置（ASU）中氬氣中氮雜質(zhì)監(jiān)測(cè)
氬氣凈化系統(tǒng)出口氮?dú)鉂舛瓤刂?/div>
冶金行業(yè)（如不銹鋼精煉）中保護(hù)氣體純度檢測(cè)
實(shí)驗(yàn)室高純氣體質(zhì)量分析
低溫液體儲(chǔ)運(yùn)系統(tǒng)（如液氬罐車）氮?dú)馕廴颈O(jiān)測(cè)

? 總結(jié)

J-SL PES-050 是一款專為微量氮?dú)鈾z測(cè)設(shè)計(jì)的高性能分析儀器，具備高靈敏度、快速響應(yīng)、無(wú)放射源、低維護(hù)等優(yōu)勢(shì)，特別適合對(duì)氬氣或超純氣體中氮雜質(zhì)有嚴(yán)格控制的工業(yè)與科研場(chǎng)景。

? 核心特點(diǎn)

表格

復(fù)制

特性	說(shuō)明
測(cè)量原理	基于等離子體發(fā)射光譜法（Plasma Emission Spectroscopy），通過(guò)高頻高壓電離氣體，激發(fā)氮原子發(fā)射特征光譜（約 337 nm ± 2 nm），實(shí)現(xiàn)非放射性、高靈敏度檢測(cè) 。
測(cè)量范圍	典型量程為 0～10 ppm 或 0～100 ppm，可定制更低濃度。
響應(yīng)時(shí)間	T90 ≤ 30 秒，屬于高速響應(yīng)型，適合在線實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè) 。
檢測(cè)精度	±2% FS/24h 穩(wěn)定性，1%重復(fù)性，適用于微量級(jí)氮?dú)鈾z測(cè) 。
樣氣條件	溫度：10～40℃，流量：50～150 mL/min，壓力：30～70 kPa，需避免含塵、含水或其他雜質(zhì)氣體（如 O?、CH?、H?、CO）。