產品資料
桌面型潔凈環境氟氣體濃度監測儀裝置
產品名稱: 桌面型潔凈環境氟氣體濃度監測儀裝置
產品型號: FU-100
產品特點: 桌面型潔凈環境氟氣體濃度監測儀裝置日本 PhotoScience FU-100 是一臺“潔凈環境專用"的氟氣體（F?、HF、SF?、NF? 等）濃度測量裝置，采用真空紫外光離子化（VUV-PID）+ 窄帶濾光片輪技術，可在 ppb – ppm 范圍內連續、無耗材、高選擇性地監測潔凈室、EUV 腔體、ALD 設備排氣中的總氟量或單一氟組分，廣泛用于半導體 7 nm 以下節點、OLED 蒸鍍、鈣鈦礦
桌面型潔凈環境氟氣體濃度監測儀裝置 的詳細介紹
桌面型潔凈環境氟氣體濃度監測儀裝置
桌面型潔凈環境氟氣體濃度監測儀裝置
日本 PhotoScience FU-100 是一臺“潔凈環境專用"的氟氣體（F?、HF、SF?、NF? 等）濃度測量裝置，采用真空紫外光離子化（VUV-PID）+ 窄帶濾光片輪技術，可在 ppb – ppm 范圍內連續、無耗材、高選擇性地監測潔凈室、EUV 腔體、ALD 設備排氣中的總氟量或單一氟組分，廣泛用于半導體 7 nm 以下節點、OLED 蒸鍍、鈣鈦礦電池等對氟污染極度敏感的產線。
? 核心賣點
- VUV-窄帶輪：10.2 eV 真空紫外燈 + 6 位濾光片輪，F?/HF/NF?/SF? 單一選測，無耗材、無化學池
- ppb 級下限：0 – 500 ppb F? 檔，檢出限 1 ppb，線性 R2 > 0.999
- 潔凈對應：全 316L EP + 金屬墊片，Particle ≤ 1 pc/L (≥0.2 µm)，無死體積 < 0.1 mL
- 高速響應：T90 ≤ 5 s（1 L/min），可捕捉 ALD 脈沖沖洗峰值
- 雙量程自動切換：0 – 500 ppb / 0 – 10 ppm / 0 – 100 ppm 三檔，自動跳檔
- 無零點漂移：雙光束 VUV + 參考池，24 h 零點漂移 < ±1 ppb
- 數據完整：32 GB 內置 + OPC-UA / Modbus TCP，5 年連續存
日本 PhotoScience FU-100 是一臺“潔凈環境專用"的氟氣體（F?、HF、SF?、NF? 等）濃度測量裝置，采用真空紫外光離子化（VUV-PID）+ 窄帶濾光片輪技術，可在 ppb – ppm 范圍內連續、無耗材、高選擇性地監測潔凈室、EUV 腔體、ALD 設備排氣中的總氟量或單一氟組分，廣泛用于半導體 7 nm 以下節點、OLED 蒸鍍、鈣鈦礦電池等對氟污染極度敏感的產線。
? 核心賣點
- VUV-窄帶輪：10.2 eV 真空紫外燈 + 6 位濾光片輪，F?/HF/NF?/SF? 單一選測，無耗材、無化學池
- ppb 級下限：0 – 500 ppb F? 檔，檢出限 1 ppb，線性 R2 > 0.999
- 潔凈對應：全 316L EP + 金屬墊片，Particle ≤ 1 pc/L (≥0.2 µm)，無死體積 < 0.1 mL
- 高速響應：T90 ≤ 5 s（1 L/min），可捕捉 ALD 脈沖沖洗峰值
- 雙量程自動切換：0 – 500 ppb / 0 – 10 ppm / 0 – 100 ppm 三檔，自動跳檔
- 無零點漂移：雙光束 VUV + 參考池，24 h 零點漂移 < ±1 ppb
- 數據完整：32 GB 內置 + OPC-UA / Modbus TCP，5 年連續存
日本 PhotoScience FU-100 是一臺“潔凈環境專用"的氟氣體（F?、HF、SF?、NF? 等）濃度測量裝置，采用真空紫外光離子化（VUV-PID）+ 窄帶濾光片輪技術，可在 ppb – ppm 范圍內連續、無耗材、高選擇性地監測潔凈室、EUV 腔體、ALD 設備排氣中的總氟量或單一氟組分，廣泛用于半導體 7 nm 以下節點、OLED 蒸鍍、鈣鈦礦電池等對氟污染極度敏感的產線。
? 核心賣點
- VUV-窄帶輪：10.2 eV 真空紫外燈 + 6 位濾光片輪，F?/HF/NF?/SF? 單一選測，無耗材、無化學池
- ppb 級下限：0 – 500 ppb F? 檔，檢出限 1 ppb，線性 R2 > 0.999
- 潔凈對應：全 316L EP + 金屬墊片，Particle ≤ 1 pc/L (≥0.2 µm)，無死體積 < 0.1 mL
- 高速響應：T90 ≤ 5 s（1 L/min），可捕捉 ALD 脈沖沖洗峰值
- 雙量程自動切換：0 – 500 ppb / 0 – 10 ppm / 0 – 100 ppm 三檔，自動跳檔
- 無零點漂移：雙光束 VUV + 參考池，24 h 零點漂移 < ±1 ppb
- 數據完整：32 GB 內置 + OPC-UA / Modbus TCP，5 年連續存
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